棱镜耦合波导测试仪

Metricon Model 2010棱镜耦合仪使用先进的光波导技术对电介质及聚合物膜的膜厚和折射率/双折射进行快速及准确的测量。对于许多薄膜及光波导用途，Model 2010提供了比以椭圆光度法或分光光度法为基础的传统仪器更独特的技术。
MODEL 2010的优势
Model 2010数据分析软件是完全通用的，兼容Windows XP / Vista / Windows 7,极大地提高了用户友好的控制程序,和新测量的功能，允许测量从最常见到最特殊的薄膜而不需依靠内部系数或菜单式校准曲线。
• 不必预先知晓厚度及折射率
• ±.0005常规折射率分辨率-尤其在大批量生产时比其他技术更具优势（可获得更高折射率）
• 完全通用化-没有固定的薄膜/基底合并菜单
• 可测量双膜结构中的单膜厚度及折射率
• 体材料或基底材料的高精度折射率测量
• 快速测量薄膜或漫反射光波导参数（20秒）
美国Metricon公司引入了世界第一台棱镜耦合仪，开创了在薄膜、大面积材料、光波导等实际应用的棱镜耦合技术，多年来已经超过千套测试系统在多个顶端可以大学，研究所和企业实际应用，并且在数百期刊和文献上都有引用。
　

主要技术指标：
z 折射率精度:±0.001 (甚至更高 0.0001-0.0002)z 折射率分辨率: ±0.0003(甚至高于0.00005)
z 厚度精度:±(0.5%+50Å) 厚度分辨率:±0.3%

z 折射率测量范围:2.65以下(一些情况可达3.35以下)

z 操作波长:632.8nm,1310nm,1550nm以及其他可见光/近红外光
z 允许的基底材料:硅、砷化镓、玻璃、石英、GGG、蓝宝石、锂酸铌等
z 软件:windows version 操作软件
z 输出:计算机显示和打印机输出

薄膜类型和折射率	厚度和折射率一起测量	仅测量厚度
硅基上的二氧化硅(n=1.46)	0.48-150mm	0.20-0.48mm
硅基上的光刻胶(n=1.63)	0.42-150mm	0.18-0.42mm
二氧化硅上的光刻胶(n=1.63)	0.70-150mm	0.30-0.70mm
硅基上的聚酰亚胺(n=1.72)	0.38-150mm	0.15-0.38mm
二氧化硅上的聚酰亚胺(n=1.72)	0.50-150mm	0.16-0.50mm
硅基上的氮氧化硅(n=1.80)	0.35-150mm	0.14-0.35mm
二氧化硅上的氮氧化硅(n=1.80)	0.45-150mm	0.13-0.45mm
硅基上的氮化硅(n=2.0)	0.32-150mm	0.12-0.32mm
二氧化硅上的氮化硅(n=2.0)	0.30-150mm	0.15-0.30mm

2010棱镜耦合仪的主要特点：

z 中/厚膜膜厚折射率(尤其是光波导)的最佳选择
z 不需要预先知道膜的厚度

z 独特的气压耦合方式,不需要加耦合液

测试原理：
当光入射到棱镜上,随着旋转台的旋转,入射角就随之发生了变化,在某一个入射角度,光子就会经空气狭缝进入薄膜传输出来,因此探测器得到的光子能量就会降低,形成凹陷,这叫做泄漏模。第一个模的位置决定了薄膜的折射率,而模间隔决定了薄膜的厚度。

棱镜耦合仪和椭偏仪的区别

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